據(jù)不同直徑的測(cè)量盤(pán)，當(dāng)鋪盤(pán)厚度達(dá)到放射性射線(xiàn)的有效飽和厚度時(shí)，對(duì)應(yīng)的取樣量為鋪盤(pán)量的“最小取樣量”，此鋪樣方法即為厚源法。
1 方法原理
緩慢將待測(cè)樣品蒸發(fā)濃縮，轉(zhuǎn)化成硫酸鹽后蒸發(fā)至干，然后置于馬弗爐內(nèi)灼燒得到固體殘?jiān)?。?zhǔn)確稱(chēng)取不少于“最小取樣量”的殘?jiān)跍y(cè)量盤(pán)內(nèi)均勻鋪平，置于低本底a、B測(cè)量?jī)x上測(cè)量總B的計(jì)數(shù)率，以計(jì)算樣品中總B的放射性活度濃度。
2 分析步驟
2.1儀器本底的測(cè)定
取未使用過(guò)、無(wú)污染的測(cè)量盤(pán)(67)，洗滌后用酒精浸泡1h以上，取出、烘干，置于低本底a、B測(cè)量?jī)x(61)上連續(xù)測(cè)量?jī)x器的總B本底計(jì)數(shù)率8h~24h，確定儀器本底的穩(wěn)定性，取平均值，以計(jì)數(shù)率RO(s-1)表示。
2.2有效飽和厚度(最小鋪盤(pán)量)的確定實(shí)際測(cè)量:分別稱(chēng)取80mg 100mg 120mg 140mg 160mg 180mg 200mg、220mg240mg的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)(5.6)于測(cè)量盤(pán)內(nèi)，按樣品源的制備(7.2.4)相同步驟，制成不同厚度的系列標(biāo)準(zhǔn)源，均勻平鋪在測(cè)量盤(pán)底部，晾干后，置于低本底a、B測(cè)量?jī)x(6.1)上測(cè)量每個(gè)標(biāo)準(zhǔn)源的總B計(jì)數(shù)率。以總B凈計(jì)數(shù)率為縱坐標(biāo)，鋪盤(pán)量為橫坐標(biāo)，繪制B自吸收曲線(xiàn)。當(dāng)鋪盤(pán)量達(dá)到一定的值時(shí)，總B凈計(jì)數(shù)率不再隨鋪盤(pán)量的增加而增加，延長(zhǎng)自吸收曲線(xiàn)的斜線(xiàn)段與水平段，交叉點(diǎn)對(duì)應(yīng)的鋪盤(pán)量即為標(biāo)準(zhǔn)源的有效飽和厚度，也就是方法的最小鋪盤(pán)量。
理論估算:如果有效飽和厚度測(cè)量有困難，可直接按0.1Amg計(jì)算。http://unifitpv.cn
